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原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)基于其自限制性,可以制备出均匀性好,厚度尺寸精确可控的薄膜。氧化物薄膜具有优良的物理性能和化学性能,因此被广泛运用于微电子器件,电致发光器件,光波导器件以及抗腐蚀土层等众多领域。传统的原子层沉积对于沉积温度有一定的要求,这就限制了其在某些电子器件领域的应用,如对高温敏感的柔性电子领域。