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用RF磁控浅射法制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.研究了氮气分压和纯Fe衬层对Fe-N薄膜结构和磁性的影响.结果表明:当氮气分压为2×10<-4>Torr时,最有利于α″-Fe<,16>N<,2>相的形成.在此条件下制备的FeN薄膜的饱和磁化强度高达2.735T.
Fe-N薄膜的结构和磁性研究
【摘 要】
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用RF磁控浅射法制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.研究了氮气分压和纯Fe衬层对Fe-N薄膜结构和磁性的影响.结果表明:当氮气分压为2×10Torr时,最有利于α″-FeN相的形成.在
【机 构】
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天津大学现代材料物理研究所(天津);天津市薄膜物理及低维功能材料设计重点实验室;天津大学(天津)
【出 处】
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第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议
【发表日期】
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2004年5期
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