纳米金刚石薄膜的场电子发射

来源 :第七届中国真空微电子学与场致发射学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:labidax
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本文报导了纳米金刚石薄膜的场电子发射。金刚石薄膜是利用微波等离子体化学气相沉积法(CVD)在沉积了Mo膜的陶瓷衬底上制备的。通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、Raman光谱等手段确定薄膜是纳米结构。X射线衍射谱显示有金刚石(111)面的宽峰,利用SEM观察到了薄膜的纳米结构,Raman谱显示在1332C<'-1>有一宽峰,另一个宽峰在1580cm<'-1>。在真空度约10<'-7>Torr的真空室中对薄膜进行了场发射实验,结果表明,其阈值电场低于2.4V/μm,在10V/μm的电场下,其场发射电流密度为4mA/cm<'2>,发射点密度为10<'3>/cm<'2>。
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