【摘 要】
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照明系统是光刻机中曝光系统的一个重要组成部分,其重要指标之一是照明均匀性,良好的照明均匀性是保证光刻机在大曝光场内获得均匀曝光线条宽度的必要条件.为了改善照明系统的照明均匀性,研究者提出了多种均匀化技术,诸如积分棒、衍射光学元件、微透镜阵列以及这些技术的结合等.相比之下,只有微透镜阵列能应用于高数值孔径投影光刻机,因为其在获得大尺寸照明光场的同时,还能保持的光束的偏振特性.光刻机是一种非常复杂的系
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院大学,北京,100049 中国科学
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照明系统是光刻机中曝光系统的一个重要组成部分,其重要指标之一是照明均匀性,良好的照明均匀性是保证光刻机在大曝光场内获得均匀曝光线条宽度的必要条件.为了改善照明系统的照明均匀性,研究者提出了多种均匀化技术,诸如积分棒、衍射光学元件、微透镜阵列以及这些技术的结合等.相比之下,只有微透镜阵列能应用于高数值孔径投影光刻机,因为其在获得大尺寸照明光场的同时,还能保持的光束的偏振特性.光刻机是一种非常复杂的系统,其装配精度要求极高,在装配之前必须测定关键元器件的工作性能,用于匀光的微透镜阵列就是其中的关键元件之一.因为投影光刻机照明系统属于大视场和高NA照明系统,所以照明均匀化器件的整体尺寸比较大,大口径均匀化器件的加工工艺要求很高,同时大口径均匀化器件也要求很高的性能检测手段,因为照明均匀化器件性能的离线检测很难采用实际工作时的大口径入射光束,并且加工与配套使用的大口径聚光镜难度很大,此外没有简单的方法实现入射到微透镜阵列上的光分布为离轴照明模式.
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