【摘 要】
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研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装置。微波经过一段真空波导管，以反常波模式耦合输入共振腔，腔内溅射靶由平面靶和订状靶组成，圆筒状靶后面加了铁环，装置的这种设计方法使常
【机 构】
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化工学院交通学院院等离子体物理研究所
【出 处】
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中国核学会核聚变与等离子体应用学术讨论会
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研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装置。微波经过一段真空波导管，以反常波模式耦合输入共振腔，腔内溅射靶由平面靶和订状靶组成，圆筒状靶后面加了铁环，装置的这种设计方法使常规ECR溅射法在沉积薄膜中经常受到的两个限制一波窗口污染和膜的沉积速率慨得到解决，并且，在2xl0-4的低气压下，金瞩铜膜的沉积速率可达到1200A/min.
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