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Al-Si-Pd、Al-Si-Cu合金膜抗电徒动特性对比研究
【机 构】
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北京工业大学半导体器件可靠性物理研究室
【出 处】
:
中国电子学会可靠性分会第七届学术年会
【发表日期】
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1994年期
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