【摘 要】
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为了使微电子系统长时间稳定运行，设计和制备有效的润滑系统非常迫切。采用等离子刻蚀技术在硅片表面制备了具有不同尺寸和密度的微坑织构。然后通过一步法在织构化硅片上
【机 构】
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中国科学院宁波材料技术与工程研究所 中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室,浙江宁波 315201
【出 处】
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第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
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为了使微电子系统长时间稳定运行，设计和制备有效的润滑系统非常迫切。采用等离子刻蚀技术在硅片表面制备了具有不同尺寸和密度的微坑织构。然后通过一步法在织构化硅片上构筑了一层自组装薄膜。采用原子力显微镜、光电子能谱、接触角测定仪、摩擦力显微镜和UMT-3摩擦磨损试验机系统考察了所制备薄膜的表面形貌、化学组分、机械性能及微/纳摩擦学行为，并探索了功能化表面的润滑机理。结果表明：微坑织构和自组装薄膜的组合显示出协同改善硅片表面微/纳摩擦学性能的效应，其提高程度远远大于单一的微坑织构和自组装薄膜之和，且得到了最优化的微坑织构参数。该研究内容将为应用于微机电系统的高性能润滑薄膜设计和制备提供理论指导。
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