【摘 要】
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本文采用磁控溅射法制备MnBiAl薄膜,研究了其成分及沉积周期对MnBiAl结构的影响.研究结果表明在Al含量一定的情况下,只有当Mn:Bi原子比接近于1时,才能获得结构完整的NiAs型六
【机 构】
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河北工业大学材料学院(天津);中科院物理所国家磁学重点实验室(北京)河北工业大学材料学院(天津)中科院物理所国家磁学重点实验室(北京)
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本文采用磁控溅射法制备MnBiAl薄膜,研究了其成分及沉积周期对MnBiAl结构的影响.研究结果表明在Al含量一定的情况下,只有当Mn:Bi原子比接近于1时,才能获得结构完整的NiAs型六角结构.在总厚度不变的前提下,单周期的样品在真空退火后具有比双周期样品更完整的NiAs型六角晶体结构取向性.我们发现在室温至400℃的升温过程中,溅射MnBi<,0.93>Al<,0.18>薄膜的晶格只发生了膨胀,而不存在从低温相至高温相的转变.
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