【摘 要】
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该文研究了在铜电极上进行了恒电位电沉积和脉冲电沉积法制备Y-Co合金膜,结果表明,利用恒电位法可制得Y含量较高的Y-Co沉积膜;而利用脉冲电沉积法可获得表面状况佳,抗氧化性能好的沉积膜,但使金膜中Y含量较低。
【机 构】
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信息产业部第五研究所 中山大学化学与化学工程学院
【出 处】
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中国电子学会2000年电子产品防护技术研讨会
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该文研究了在铜电极上进行了恒电位电沉积和脉冲电沉积法制备Y-Co合金膜,结果表明,利用恒电位法可制得Y含量较高的Y-Co沉积膜;而利用脉冲电沉积法可获得表面状况佳,抗氧化性能好的沉积膜,但使金膜中Y含量较低。
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