【摘 要】
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随着纳米科技的出现和发展，越来越多的基于纳米技术的新材料，特别是电子器件、显示材料、能源开发及其存储材料等，走出实验室实现了大规模生产。纳米涂层和纳米包覆颗粒是其中两项比较常用的技术[1]，其中对于纳米级尺寸的精确控制和测量能力能够影响最终产品的性能。常规在实验室级的涂层厚度(〈100 纳米)检测方法[2]，例如透射电镜、原子力显微镜、椭偏仪等，不能满足产品在工业大规模生产中的快速、简单、无损的要
【机 构】
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陶氏化学基础科学研究院分析科学,上海 浦东,201203 陶氏化学基础科学研究院分析科学,Midl
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随着纳米科技的出现和发展，越来越多的基于纳米技术的新材料，特别是电子器件、显示材料、能源开发及其存储材料等，走出实验室实现了大规模生产。纳米涂层和纳米包覆颗粒是其中两项比较常用的技术[1]，其中对于纳米级尺寸的精确控制和测量能力能够影响最终产品的性能。常规在实验室级的涂层厚度(〈100 纳米)检测方法[2]，例如透射电镜、原子力显微镜、椭偏仪等，不能满足产品在工业大规模生产中的快速、简单、无损的要求，及其对复合膜膜厚的检测能力。本文主要介绍了陶氏化学针对其在纳米材料的分析需求，通过对不同形貌、不同材质、不同层数的纳米涂层进行Monte Carlo 模拟计算和实验数据分析，建立了一套基于能量色散 X 射线光谱仪(EDX)的快速无损检测纳米膜厚方法，适用于 0 到 200 纳米厚度范围、有机无机材质、单/多涂层的纳米材料。同时结合针对材料优化的自动图像采集(AIA)系统，使这个方法能够推广到大规模生产中应用。
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