利用计算机模拟研究硅无掩模腐蚀中的圆角问题

来源 :第四届全国微米/纳米技术学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hahaohan
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硅各向异性湿法腐蚀是重要的微机械加工技术,传统的腐蚀技术在制造多层结构时遇到了较大的困难,而最近开发成功的无掩模腐蚀新技术是较好地解决了这一问题.与传统腐蚀技术不同,无掩模腐蚀得到的结构侧壁为(311)面.在(311)面与(001)底面间会出现一系列连续变化的晶面.这些连续晶面组成的结构称为圆角.圆角可用于制作压力传感器的应力匀散结构.为了充分了解圆角的特性,方便无掩模腐蚀的掩模设计,本实验室开发了一二维腐蚀模拟程序.利用模拟程序对圆角特性进行了模拟,模拟结果与实验结果能较好地符合.
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