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国产UHVCVD系统及其生长SiGeSi特性研究
【机 构】
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中国科学院半导体研究所(北京)中国科学院沈阳科学仪器研制中心(沈阳)
【出 处】
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第五届全国分子束外延学术会议
【发表日期】
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1999年6期
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