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稀土La、Nd掺杂硅基薄膜光致发光特性
稀土La、Nd掺杂硅基薄膜光致发光特性
来源 :全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hhzzmm
【摘 要】
:
测量了La、Nd稀土离子注入Si基晶片,在不同退火条件下的室温光致发光(PL)谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大、随退火
【作 者】
:
王水凤
元美玲
曾宇昕
徐飞
程国安
【机 构】
:
南昌大学物理系(南昌)
【出 处】
:
全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
稀土
掺杂浓度
硅基薄膜
室温光致发光
退火条件
离子注入
发光效率
发光机理
光稳定
发光峰
样品
晶片
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测量了La、Nd稀土离子注入Si基晶片,在不同退火条件下的室温光致发光(PL)谱,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大、随退火条件的不同而改变。并对样品的发光机理作了初步探讨。
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