RSJ无地薄型提花织物的设计与开发

来源 :2011年全国经编技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xxxhot006
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  本文从机器参数、原料、工艺原理、后整理工序等方面详细介绍了无地薄型提花织物生产工艺,在总结无地薄型提花织物工艺规律的基础上,探讨了该类产品的工艺设计方法。针对目前贾卡花型设计软件中无底意匠花型不直观、设计困难的缺点,本文提出了根据贾卡效应重新定义贾卡意匠颜色、根据提花规律校正花纹边缘颜色的设计思路,并在江南大学开发的WKCAD4.0中实现了对该类无地织物贾卡花型的自动检查和校正。
其他文献
采用电子束及真空热蒸发的方式镀制了氧化钨薄膜及掺杂的氧化钨的复合共生薄膜。运用拉曼光谱以及电化学工作站等测试手段分析了氧化钨复合共生薄膜的结构及电致变色性能。通过对拉曼光谱曲线的理论模拟发现,源于晶相的810cm-1拉曼峰的相对强度变化与样品的致色效率存在负相关,即拉曼峰相对强度越小,样品的致色效率越高。
本文自行研制了一套可控变温样品室装置,对硅纳米晶薄膜进行加热实验,并基于洛伦兹色散模型,对实验获得的椭偏参数进行拟合,得到不同温度下的nc-Si和SiO2的复合层折射率随温度的变化关系。实验结果表明镶嵌在二氧化硅中的硅纳米晶在不同温度下,椭偏参数有规律的变化。发合膜层的光学折射率n随着温度的升高有线性增大趋势。这些数据在硅基微纳光子学器件的研究中有参考价值。
本文研究通过在Mg/Si多层膜引入Mo或SiC阻隔层的界面工程法来提高多层膜的光学性能。采用磁控溅射法镀制多层膜,X射线和极紫外反射法表征多层膜。测试结果表明,引入双层SiC阻隔层的Mg/SiC/Si/SiC多层膜与Mg/Si相比,界面质量和光学性能都有了极大的提高,在30nm处10度入射条件下,反射率从5.2%提高到40.2%。
本文的研究对象是采用物理气相沉积法在硅片上制备的多种硅氧合物的光致发光响应。在制备镶嵌有纳米晶体硅的二氧化硅薄膜的基础上,使用倍频的钛宝石飞秒激光对样品进行了脉冲线泵浦测量了其受激自发辐射的光学增益系数,以及通过脉冲点泵浦测量了此样品的光学衰减系数,在泵浦强度为200mJ/cm2的情况下,测得其光学净增益为114cm2,光学衰减为137cm2,最后得到此样品实际的光学增益为251cm2。这一结果揭
@@ Surface plasma polaritons are collective electron charge oscillations localized at the interface between two different media with the real part of dielectric functions ε in opposite signs. The pla
会议
CuInSe2半导体材料的禁带宽度为1.04 eV,可以通过Ga掺杂代替In形成CuIn1-xGaxSe2材料调节其禁带宽度达到或接近理想太阳电池材料的禁带宽度值,且此材料具有较高的光吸收系数,已经广泛应用于光伏领域。本文用简单的溶液化学方法合成了CuInSe2纳米晶,并对其性质进行了研究。
在量子通信的密钥分发过程中,需要对两个波长(810和850nm)的线偏光束进行光路分离,同时要保持分离后线偏光的偏振方向和消光比。为此设计了810nm透射-850nm反射、入射角为45度的分色片,在倾斜入射条件下,为了抑制工作波长处S、P偏振分量的能量、相位分离,选择了合适的基础膜系,利用其过渡带的消偏振性能,并通过软件进行目标值包含相位性能的全局优化,进一步降低偏振影响,实现设计目标。分别选用T
在本文中,做为低折射率材料,七种稀土氟化物(氟化镧、氟化铈、氟化谱、氟化钐、氟化铒、氟化镱和氟化钇)在长波红外宽带增透中得到了应用。稀土氟化物薄膜被沉积在锗基片,使用洛伦兹谐振子模型对测量的透射谱拟合得到2~20μm光谱范围的薄膜光学常数,并且,沉积在硅基片的薄膜反射谱也被分析。使用稀土氟化物作为低折射率材料的长波红外宽带增透在8到15μm的光谱性能表明稀土氟化物是一种优良的低折射率光学薄膜材料。
基于等效电路模型、分析如何采用电化学阻抗谱(EIS)和强度调制光电压谱及强度调制光电流谱(IMVS,IMPS)方法获得染料敏化太阳电池内部电子复合常数、电子寿命、传输复合阻抗等微观参数,并进一步分析光阳极薄膜厚度、电解液厚度、Pt电极中Pt的厚度对这些参数的影响。从而为设计稳定、高效的染料敏化太阳电池提供参考。
本文介绍了经编无缝织物设计方法,从地梳和贾卡梳栉原料的选择、花型图案的设计选材和图案布局、地组织和贾卡组织的工艺设计、常见款式和系列产品的款式设计、后整理几个方面进行了详细介绍。经编无缝织物的设计可借助于WKCAD3.0系统很方便地完成,为厂家生产经编无缝织物提供了思路。