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会议论文
微氮直拉硅单晶中氧化诱生层错
微氮直拉硅单晶中氧化诱生层错
来源 :第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aini123321231
【摘 要】
:
本文研究了微氮直拉硅单晶中的氧化诱生层错,指出,氮能促进硅中氧的沉淀.与非含氮硅单晶相比,含氮硅单晶中引起的OSF密度较小,这可能是氧沉淀生长的延滞现象引起的.
【作 者】
:
储佳
杨德仁
马向阳
樊瑞新
李立本
阙端麟
【机 构】
:
浙江大学硅材料国家重点实验室(杭州)
【出 处】
:
第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
直拉硅单晶
氮硅单晶
氧化诱生层错
氧沉淀
硅中氧
密度
晶相
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本文研究了微氮直拉硅单晶中的氧化诱生层错,指出,氮能促进硅中氧的沉淀.与非含氮硅单晶相比,含氮硅单晶中引起的OSF密度较小,这可能是氧沉淀生长的延滞现象引起的.
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