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偏压原子力显微技术:通过局部反型掺杂检测缺陷的通用方法
偏压原子力显微技术:通过局部反型掺杂检测缺陷的通用方法
来源 :第17届全国晶体生长与材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:haidi99
【摘 要】
:
高质量二维材料在基础科学研究和器件应用领域中具有重要的地位[1]。因此针对二维材料的检测,特别是对其缺陷的检测成为了至关重要的内容。一个精准、快捷的缺陷检测手段
【作 者】
:
贾玉萍
郭丽伟
芦伟
黄郊
李治林
陈洪祥
陈小龙
【机 构】
:
中国科学院物理研究所
【出 处】
:
第17届全国晶体生长与材料学术会议
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
偏压
原子力显微技术
局部
掺杂
检测缺陷
基础科学研究
二维
材料
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高质量二维材料在基础科学研究和器件应用领域中具有重要的地位[1]。因此针对二维材料的检测,特别是对其缺陷的检测成为了至关重要的内容。一个精准、快捷的缺陷检测手段可以在二维材料的制备过程中提供及时有效的反馈。
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