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利用原子力显微镜观察熔石英酸洗形貌，结合二次离子质谱分析，研究了熔石英的再沉积层结构和抛光杂质分布。酸洗结果表面，熔石英亚表面存在两类划痕，分别为微米级划痕和纳米级划痕。微米级划痕随着酸洗的进行不断展宽变深，纳米级划痕不断展宽但是深度基本不变。抛光过程中较大的抛光粉颗粒承受的机械负载超过一定的阈值，便形成纳米级划痕。蚀刻形貌和杂质嵌入深度及其关联性表明，熔石英基片表面10nm深的再沉积层内存在大量纳米级划痕和抛光杂质，其分布随着深度指数衰减。由于纳米级划痕的分布特征由抛光过程决定，因此可以根据纳米级划痕密度、宽深比随蚀刻深度变化的规律估算出再沉积层厚度，结果与二次离子质谱测得的杂质嵌入深度基本一致，形成了一种测量再沉积层厚度的新方法。