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掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点，本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中的实践和工艺探索，提出了以激光光绘技术改进掩模版制作工艺的一种可行途径。
激光光绘技术在MIC掩模版制作中的应用与实践
【摘 要】
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掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点，本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中的实践和工艺探索，提出了以激光光绘技术改进
【机 构】
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中国空间技术研究院西安分院西安710000
【出 处】
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2010’全国第十三届微波集成电路与移动通信学术会议
【发表日期】
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2010年10期
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