当半导体制程进展到纳米技术以后;气悬分子污染(AMC)对制程和良率的危害程度已经取代气悬微粒污染问题，成为当今纳米科技研发和制造洁净室环境的主要难题。为了解决AMC问题;本文将提出发展超纯净空气(UPA)的方法论，并且透过实验方式建构10 ppt级的雏型系统，提供无AMC污染的纳米科技研发和制造洁净室环境。 UPA的系统是由三个主要模块所构成。首先;针对空气中较难去除的高分子可凝结物，以短波长紫外光(UVC)提供足够的能量将其结构破坏，同时供应液滴气胶使其与高分子化合物结合为亲水性化合物。其次;经过前项光化反应的污染物接着进入压缩及冷凝制程，利用气胶成核、凝结、和成长的过程，使微量的污染物在空气压缩的过程中增加和水滴碰撞的机率而溶于水中，然后利用除湿装置将空气中的水滴移除，冷凝的过程中所有溶入水中的污染物也将一并被排出。最后;部分无法经由上述两个阶段处理的微量污染物，则可以透过选择性的分子筛及终端过滤器去除。本文首先就微污染控制原理和洁净技术之背景做简要回顾，再介绍UPA系统的概念和原理。接着报告实验的方法，讨论实验过程的经验和结果。最后则是提出对后续研究的建议。