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垂直连续镀铜塞孔工艺作为一种新兴的镀铜工艺以其独特的电镀方式在PCB行业应用越来越广泛,本文简单介绍了垂直连续CopperFilling电镀过程机理以及影响填平效果的因素,并对激光盲孔的成孔方式、盲孔孔型对Copper Filling电镀结果的影响进行了研究,对失效模式进行了分析.
激光盲孔孔型对盲孔镀平结果的影响
【摘 要】
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垂直连续镀铜塞孔工艺作为一种新兴的镀铜工艺以其独特的电镀方式在PCB行业应用越来越广泛,本文简单介绍了垂直连续CopperFilling电镀过程机理以及影响填平效果的因素,并对激
【机 构】
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上海美维电子有限公司项目开发部
【出 处】
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2007年上海市电子电镀学术年会
【发表日期】
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2007年11期
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