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Mevva离子源具有束流强、离子种类多、引出电压高以及多孔大面积引出的特点,Mevva强流金属离子注入被誉为新一代的离子注入技术.本文简介了Mevva ⅡA-H源离子注入机研究了几种不同情况下的注入均匀性.
Mevva源离子注入机大批量注入均匀性研究
【摘 要】
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Mevva离子源具有束流强、离子种类多、引出电压高以及多孔大面积引出的特点,Mevva强流金属离子注入被誉为新一代的离子注入技术.本文简介了Mevva ⅡA-H源离子注入机研究了几
【机 构】
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北京师范大学低能核物理研究所,射线束技术与材料改性教育部重点实验室
【出 处】
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第二届表面工程技术产业化学术交流会
【发表日期】
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2002年期
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