【摘 要】
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高分子微制造成型方式由于具有价位低且可大量生产等优点,因此可在某些特定用途上取代硅基或玻璃基微机电技术而渐渐展现其重要性.然而目前很少有利用微射出成型或微热压成型等高分子微成型方式,针对具微细特征塑料产品之成型性与转写特性等作出有系统之研究.在本研究中,利用紫外光深刻模造法(UV-LIGA)制程以硅基SU-8光阻搭配微电铸来得到用于DNA/RNA检测用之微特征流体平台之Ni-Co基模仁,其中微流道
【机 构】
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南亚技术学院机械工程学系,台湾省中坜市,32024 中原大学机械工程学系,台湾
【出 处】
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2005两岸三地先进成型与模具技术研讨会
论文部分内容阅读
高分子微制造成型方式由于具有价位低且可大量生产等优点,因此可在某些特定用途上取代硅基或玻璃基微机电技术而渐渐展现其重要性.然而目前很少有利用微射出成型或微热压成型等高分子微成型方式,针对具微细特征塑料产品之成型性与转写特性等作出有系统之研究.在本研究中,利用紫外光深刻模造法(UV-LIGA)制程以硅基SU-8光阻搭配微电铸来得到用于DNA/RNA检测用之微特征流体平台之Ni-Co基模仁,其中微流道数组之尺寸约30μm深、100μm宽且流道间距为50μm.然后选用1mm厚之PMMA基板和PMMA塑料分别作为微热压成型之基材和微射出成型材料,针对不同成型条件对微流道包括宽度与深度之转写正确性以3D雷射显微镜作一量测、分析与探讨.研究结果发现,热压温度与作用力为影响具微细特征热压组件成型正确性之两个重要关键性参数.其中微流道压印宽度与深度之正确性随作用力之增大而增加且达到一饱和值,热压温度亦有类似之影响性.而在微射出成型组件方面,宽度与深度之正确性在一般成型窗口内皆随模温、料温、射速和保压压力之增加而提高.
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