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会议论文
GaN表面缺陷的原子力显微镜表征
GaN表面缺陷的原子力显微镜表征
来源 :第十七届全国半导体物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:teachme
【摘 要】
:
GaN作为一种重要的Ⅲ-V族宽禁带化合物半导体材料,被誉为是继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料,具有优良稳定的物理及化学性质
【作 者】
:
王志红
孙浩明
黄铭钢
任志强
曾慧中
李言荣
【机 构】
:
电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054
【出 处】
:
第十七届全国半导体物理学术会议
【发表日期】
:
2009年8期
【关键词】
:
表面缺陷
半导体材料
原子力显微镜
宽禁带化合物
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GaN作为一种重要的Ⅲ-V族宽禁带化合物半导体材料,被誉为是继第一代Ge、Si半导体材料、第二代GaAs、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料,具有优良稳定的物理及化学性质,已成为研究和应用的热点。本文采用XRD和AFM对GaN表面缺陷进行了研究。
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