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目前，在硅、石英等异质基底上利用化学气相沉积方法制备的金刚石薄膜多呈现出以(111)取向为主的多晶结构，晶粒粗大，而且金刚石薄膜的粗糙度可从几微米到几十微米，限制了金刚石薄膜在电子学、光学、热学及摩擦学上的应用。因此，抛光技术成为金刚石膜实用化的一项关键技术。
化学气相沉积金刚石薄膜的紫外脉冲准分子激光抛光
【摘 要】
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目前，在硅、石英等异质基底上利用化学气相沉积方法制备的金刚石薄膜多呈现出以(111)取向为主的多晶结构，晶粒粗大，而且金刚石薄膜的粗糙度可从几微米到几十微米，限制了金刚
【机 构】
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兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室 兰州 730000
【出 处】
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中国真空学会2012学术交流会
【发表日期】
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2012年期
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