薄膜式锰铜传感器的超高压力标定

来源 :中国仪器仪表学会第三届青年学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bingying888

【摘要】

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为拓展锰铜传感器的高压测试上限,本文采用薄膜技术研制了一种新型的锰铜传感器.该传感器采用氧化铝封装,后置式结构,两步薄膜工艺制作.利用二级轻气炮进行了40～107GPa的冲击

【作者】

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杜晓松杨邦朝周鸿仁郝建德

【机构】

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电子科技大学信息材料工程学院(成都)

【出处】

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中国仪器仪表学会第三届青年学术会议

【发表日期】

：

2001年期

【关键词】

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薄膜式锰铜传感器氧化铝封装二级轻气炮试验波形工艺制作高压测试冲击高压薄膜技术标定曲线后置式直线寿命上限平台理想精度结构加载

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为拓展锰铜传感器的高压测试上限,本文采用薄膜技术研制了一种新型的锰铜传感器.该传感器采用氧化铝封装,后置式结构,两步薄膜工艺制作.利用二级轻气炮进行了40～107GPa的冲击高压加载,试验波形呈现出一理想的平台,寿命为1μs.标定曲线Px(GPa)=6.0371+29.819(△R/Ro)+21.591(△R/Ro)<2>-6.8267(△R/Ro)<3>近似于一条直线,精度达±3℅.

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