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本文研究了Si(001)6°斜切衬底上Ge量子点的固相外延生长,同时对Si(001)斜切衬底片上固相外延Ge最子点的稳定性进行了研究.
Si(001)斜切衬底片上Ge量子点的固相外延生长
【摘 要】
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本文研究了Si(001)6°斜切衬底上Ge量子点的固相外延生长,同时对Si(001)斜切衬底片上固相外延Ge最子点的稳定性进行了研究.
【机 构】
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复旦大学应用表面物理实验室
【出 处】
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第六届全国分子束外延学术会议
【发表日期】
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2001年期
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