离子辅助轰击对激光烧蚀法制备非晶碳膜的影响

来源 :第十五届全国激光学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xsfantasy

【摘要】

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离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10W/cm烧蚀石墨靶,同时用Ar轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和拉曼光谱对膜结构作了分析.

【作者】

：

郭建杨益民

【机构】

：

湘潭大学物理系(湘潭)

【出处】

：

第十五届全国激光学术会议

【发表日期】

：

2001年期

【关键词】

：

离子辅助轰击激光烧蚀法制非晶碳膜重复频率质量射频功率扫描电镜脉冲激光拉曼光谱对膜结构石墨靶膜生长低气压膜面衬底

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离子辅助轰击能有效改善非晶碳膜(a-C)的质量.用脉冲激光(532nm,3.5×10<8>W/cm<2>烧蚀石墨靶,同时用Ar<+>轰击膜面,在Si(100)衬底上沉积a-C膜.用扫描电镜和拉曼光谱对膜结构作了分析.结果表明,在较低气压和较高的射频功率下制备的a-C膜质量较好,同时,激光重复频率对膜生长也是显著影响.

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