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该文讨论了目前国内普遍采用的真空蒸镀法的优缺点，指出由真空蒸镀法所镀制的光学薄膜其性能不稳定的主要原因是微观柱状结构所致，若要从根本上改善这些缺陷，必须采用新的镀膜技术。现在采用的各种新的镀膜技术中，作者推荐离子束辅助蒸发淀积技术，并提出一个现实可行的方案：就是研制一种小型的离子源，来改进目前大量使用的高真空镀膜设备，即可使这一新技术得到推广应用。（本刊录）