【摘 要】
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利用磁控溅射的方法在玻璃基体上制备了微晶铝膜.结构分析表明,其晶粒尺度在400nm左右.利用动电位极化曲线对其在酸性(pH=2)的含Cl-(0.5mol/LNaCl)和不含Cl-(0.5mol/LNaSO4)
【机 构】
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中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳
【出 处】
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2006年全国腐蚀电化学及测试方法学术会议
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利用磁控溅射的方法在玻璃基体上制备了微晶铝膜.结构分析表明,其晶粒尺度在400nm左右.利用动电位极化曲线对其在酸性(pH=2)的含Cl-(0.5mol/LNaCl)和不含Cl-(0.5mol/LNaSO4)两种溶液体系中的电化学性能进行研究,并将其与铸铝进行了比较,结果表明其自腐蚀电位下降,自腐蚀电流略有增加,而维钝电流、点蚀击破电位以及钝化区间都大大增加.通过容抗测量(Mott-schottky曲线)对其钝化膜的电学性质进行了表征,结果发现在酸性的NaSO4溶液中,微晶铝和铸态铝上的钝化膜都表现为n型半导体性质;而在酸性的NaCl溶液中,铸态铝上的膜仍皇n型半导体性质,但微晶铝上的膜的电学性质发生了逆转,呈p型半导体性质.并进一步分析了膜的电子性质与其电化学性能之间的内在联系.
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