纳米尺度赝自旋阀结构中的电阻匹配问题

来源 :第十五届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:something190
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
  纳米尺度的赝自旋阀结构可在无外磁场的情况下发生电流感应磁化翻转效应,因而在构建非挥发存储器方面有着广泛的应用前景。本文运用宏观双通道扩散模型,研究了赝自旋阀结构中的自旋相关榆运过程;利用自旋流连续和化学势差连续作为边界条件,理论计算解释了铁磁层和非磁层电阻匹配问题对电流感应磁化翻转效应中临界电流的影响。结果表明,在纳米尺度的半导体赝自旋阀中,难以发生电流感应磁化翻转效应。
其他文献
俗话说,一方水土养一方人,位于贵州省凯里市东北部的旁海镇,就是一个养育了四五位百岁老人的山清水秀之地。在这个不被外人所熟知的小山村,没有游人如织的风 As the saying
  建立300mm硅片双面化学机械抛光中硅片上定点相对于上下抛光垫的运动轨迹方程,通过实验证明了运动轨迹路径长度与抛光去除厚度成正比关系,计算运动轨迹路径长度确定抛光垫
  对使用磷离子注入方式的轻掺杂多晶硅进行试验,研究了注入剂量、退火温度、退火时间、后续热处理过程于高阻多晶硅电学特性的关系。采取一定的工艺手段来控制后续热处理工
  通过对不同晶向、不同型号、不同电阻率的硅抛光片的去除速率做实验,发现去除速率随着晶向、型号、电阻率的不同而存在较大差异,在其它条件相同的情况下,晶向的硅片抛光速度
Many monographs point out that differential encoding and decoding is necessary for ef- fectual information transmission against phase ambiguity while seldom dis
企业生产离不开机械设备,但随着现代工业化的持续改进,机械设备被大量的使用,又会造成机械伤害事故的不断发生。机械设备的安全管理在企业生产中具有重要的意义,采取有效的预防措
  研究了金属Hf对NiSi薄膜热稳定性的影响。XRD图谱表明,在650-800℃范围二次退火仅存在NiSi相而无NiSi2相,说明Hf掺杂可以提高NiSi的结晶度,延缓NiSi2相的出现。AES表明,热退
  设计了一种硅基桥式压电微麦克风。这种微麦克风采用硅基压电多层微桥作为声压感受器件。采用有限元耦合场分析方法,对硅基压电微桥进行了有限元分析和模拟;研究了硅基压电
在现代家居中,音响系统如何兼顾体积和声场是一个最棘手的问题,如何选择一款体积适中又能获得庞大声场的音箱系统是许多用户面临的两难选择。惠威M6002HT是惠威 How to choo
  提出了一种采用表面微加工技术制作叉指状多晶3C-SiC横向谐振器的制作方案。利用氧化硅材料作为器件结构的隔离层和牺牲层,并在氧化硅上异质沉积生长2微米厚的多晶SiC材料