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半导体激光气体氮化钛合金的研究

来源 :第三届激光先进制造技术应用研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zz727zz

【摘 要】

：

　　在钛合金(TC4)表面采用激光气体氮化的方法制备TiN表面改性层,采用扫描电子显微镜、X射线能谱仪、X射线衍射仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机分别分析了TiN表面涂层的组织

【作 者】

：

易云杰 楼程华 郭士锐 姚建华 

【机 构】

：

特种装备制造与先进加工技术教育部/浙江省重点实验室(浙江工业大学),浙江杭州310014;浙江工业大学激光加工技术工程研究中心,浙江杭州310014

【出 处】

：

第三届激光先进制造技术应用研讨会

【发表日期】

：

2013年4期

【关键词】

：

钛合金 激光气体氮化 半导体激光器 

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　　在钛合金(TC4)表面采用激光气体氮化的方法制备TiN表面改性层,采用扫描电子显微镜、X射线能谱仪、X射线衍射仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机分别分析了TiN表面涂层的组织形貌、相结构与成分、硬度分布、耐磨损性能及抗气蚀性能.研究结果表明,钛合金激光气体氮化后形成了厚度为840μm,均匀致密无裂纹和孔洞等缺陷的氮化层,组成相主要有TiN和Ti.激光氮化层的显微硬度可达HV0.3790,是基体的2.3倍.

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