【摘 要】
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利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了以不同厚度的Bi 做底层的FePt 薄膜，然后 经不同温度真空热处理，得到L10 有序结构的FePt 薄膜；同时，系统地研究了退火时间以 及Bi 底层的厚
【机 构】
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北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083
【出 处】
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第5届海内外中华青年材料科学技术研讨会暨第13届全国青年材料科学技术研讨会
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利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了以不同厚度的Bi 做底层的FePt 薄膜，然后 经不同温度真空热处理，得到L10 有序结构的FePt 薄膜；同时，系统地研究了退火时间以 及Bi 底层的厚度对FePt 薄膜的磁性能和微结构的影响。实验结果表明：利用Bi 做底层， 通过Bi 原子在薄膜中的扩散作用可以有效地调控FePt 薄膜的有序化程度，从而对薄膜的矫 顽力进行控制；更重要的是，利用上述Bi 原子对FePt 原子有序化的调控作用，可以实现 FePt 原子的快速有序化，制备出能够快速有序的L10-FePt 薄膜。
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