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用中频孪生靶磁控溅射实验平台，对影响磁控溅射生成的薄膜厚度均匀性的因素进行了实验。结果表明，磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。针对实验结果，提出了用磁场和气体相互配合达到高的镀膜均匀性。
影响磁控溅射均匀性的因素
【摘 要】
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用中频孪生靶磁控溅射实验平台，对影响磁控溅射生成的薄膜厚度均匀性的因素进行了实验。结果表明，磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。针对实验结
【机 构】
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核工业西南物理研究院
【出 处】
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第十三届全国等离子体科学技术会议
【发表日期】
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2007年8期
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