化学气相沉积技术相关论文
介绍了钨及钨合金材料的市场现状,钨及钨合金制备的激光快速成形技术、等离子喷涂近净成形技术、化学气相沉积技术、放电等离子烧......
类金刚石碳(diamond-like carbon, DLC)薄膜材料在大气环境下具有低摩擦、耐磨损特性及良好的机械性能;另外,DLC具有良好的化学惰性......
通过w(CO)6化学气相沉积(MOCVD)工艺,在碳纤维表面沉积得到了碳化钨膜材料,研究了碳纤维表面沉积碳化钨膜的工艺条件.结果表明......
Effective platform for the generation of aerosol droplets and application in evaluating the effectiv
这研究的目的是双重的:第一,发展一便宜,为严峻的 nanoparticle 传感器的 easy-to-construct 和有效 nanoparticle 生成器;第二,如此的......
中国机械工程学会将于2011年5月10~13日在西安市召开“第六届表面工程国际学术会议”。征文内容包括:表面工程的历史回顾与展望:表面......
Electrocatalytic dechlorination of 2,4,5-trichlorobiphenyl using an aligned carbon nanotubes electro
Palladium loaded carbon nanotubes cathode with well-aligned nanotubes array was successfully fabricated on a titanium fo......
我们报道利用金属有机化学气相沉积技术制备高性能的2~3 μm InAs/InGaAs/InP 量子阱激光器。......
利用化学气相沉积技术在不锈钢衬底上生长了垂直取向的碳纳米管阵列,并将其用作电离规新型电子源,初步研究了电离规的真空计量学特......
衬底温度对非晶硅薄膜的生长以及异质结电池中晶体硅表面钝化起到至关重要的作用。实验中采用等离子体增强化学气相沉积技术,在......
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,重点针对用于双结叠层电池的底电池或三结叠层电池的中间电池-非晶硅锗(a-SiGe)太阳电......
在这篇文章中,我们报道了利用化学气相沉积技术制备不同形貌的A1掺杂的ZnO纳米分级结构。结果发现,在同样的生长温度下,同样的衬......
本文采用多孔空心阴极等离子体增强化学气相沉积(HC—PECVD)技术,以二氯硅烷(SiH.Cl.)和氢气(H:)分别作为硅源和还原剂制备微晶......
本文介绍了包装领域中阻隔薄膜的几种基本的制备技术,并对其技术原理和技术特点做了简要的概述,重点介绍普通包装薄膜表面沉积纳......
本文研究了采用射频等离子体增强化学气相沉积技术制备的N型微晶硅氧薄膜的纵向均匀性.喇曼测试结果显示:微晶硅氧薄膜存在着生长......
用金属有机物化学气相沉积技术在平面和图形蓝宝石衬底上生长了InGaN/GaN多量子阱太阳能电池结构,并制作了电池原型器件。XRD摇......
利用射频等离子体化学气相沉积技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜,利用红外透射光谱、椭圆偏振仪、Raman光谱等测试手段,研究在不......
固体催化剂制备的传统方法有很多,如浸渍法、共沉淀法、沉积-沉淀法、溶胶-凝胶法、液相沉积法、气相沉积法、电化学法、化学气......
目前,随着化学气相沉积技术(CVD)的日趋成熟,乙酰丙酮钯作为一种贵金属有机配合物,因其易挥发、易分解、易溶于多种有机溶剂等特......
本实验采用催化辅助化学气相沉积技术制备了ZnO纳米线阵列体系,研究了工艺条件对ZnO纳米线阵列的生长的影响,并讨论了ZnO纳米线阵......
植入义齿是目前修复牙列缺损及缺失最有效的方法,然而部件松动(尤其是螺钉松动)是植入义齿最常见的并发症,其报道发病率高达45%。现种植......
一维半导体纳米材料是未来纳电子器件的基本组成单元,在电子、热电、光电乃至能源等领域都有重要的应用。因此探索和研究一维半导......
化学气相沉积(CVD)技术是指反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技......
采用化学气相沉积技术(CVD),在乙炔气氛、500℃条件下制备了碳/高活性铝复合材料.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射......
...
本发明公开了一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法,属材料技术领域.本发明采用化学气相沉积技术,以聚对二甲苯为前驱......
中国科学院新疆理化技术研究所研究员马鹏程带领的复合材料团队与德国德累斯顿莱布尼茨高分子研究所教授Edith M?der合作,尝试以玄......
...
<正> We have proposed a novel technique, 'low energy ion implantation + swift heavy ion irradiation', for synthe......
采用化学气相沉积技术(CVD),在乙炔气氛、500℃条件下制备了碳/高活性铝复合材料。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子......
材料的摩擦,磨损,腐蚀,疲劳及其组合等问题的研究和卓有成效的解决途径成为当前表面工程领域研究的热点。本文主要介绍物理气相沉积和......
化学气相沉积(CVD)技术是近年来国际上发展和应用较广的一项先进技术.CVD法可在硬质合金和工模具钢的基体表面上形成由碳化物、氮......
对纳米TiO2薄膜的各种制备技术,包括基于溶胶-凝胶的涂层技术、电沉积、化学气相沉积、物理气相沉积、自组装制膜等技术的研究进展......
中国科学院新疆理化技术研究所与德国德累斯顿莱布尼茨高分子研究所的研究人员合作,以玄武岩纤维(BF)为基底,利用其本身含有的金属元......
在这个话题,我们首先作为电极用碳 nanotubes (CNT ) 讨论了 supercapacitors 的要求和表演,包括特定的表面区域,纯净和费用。然后,我......
一种涉及半导体新型材料领域,用化学气相沉积技术生产的热解氮化硼涂层基座,是针对目前用MOCVD技术制取GaN外延片时,由于受NH3气腐蚀,......
最近,中科院固体物理所盂国文小组在“多段异质纳米线与纳米管组成的分支结构”研究方面取得进展。科研人员以分支形貌孔的氧化铝为......
化学气相渗透(CVI)是最具潜力的先进陶瓷基复合材料(CMC)制备工艺.本文概要阐述了CVI技术的基本原理和工艺特点,对不同类型的CVI工......
1 前言到目前止,国内外研制陶瓷活塞环的技术有两种:一种是在2001年之前采用的老技术,即用火焰喷涂法或高温等离子喷涂法向活塞环......
47年前高锟博士发表论文《光频率介质纤维表面波导》时,难以预测到光纤通信给人类带来的巨大改变。正是由于采用了化学气相沉积技术......
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料,材料沉积速率随硅烷浓度......
由多段异质材料纳米线与纳米管联结组成的纳米结构,是纳米光电子器件的重要组成单元,这种结构在条形编码、光学读出、生物、催化、自......