一种基于深刻蚀的硅基周期波导微腔

来源 :第十届全国激光技术与光电子学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：feboy

【摘要】

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　　研究了一种基于深刻蚀的硅基周期波导一维光子晶体微腔，采用时域有限差分(FDTD)方法对设计的微腔结构进行了模拟分析；讨论了深刻蚀对微腔品质因数的影响，计算表明采用深刻蚀

【作者】

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喻平吴飞青王卓远喻明艳俞恩军

【机构】

：

浙江大学宁波理工学院,浙江宁波315100

【出处】

：

第十届全国激光技术与光电子学学术会议

【发表日期】

：

2015年期

【关键词】

：

深刻蚀硅基周期波导光子晶体微腔扫描电子显微镜原子力显微镜时域有限差分电子束光刻

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　　研究了一种基于深刻蚀的硅基周期波导一维光子晶体微腔，采用时域有限差分(FDTD)方法对设计的微腔结构进行了模拟分析；讨论了深刻蚀对微腔品质因数的影响，计算表明采用深刻蚀可有效的保持高Q 值并能保证微腔的机械强度.采用电子束光刻(EBL)结合感应耦合等离子(ICP)刻蚀制作了基于硅(SOI)的周期波导微腔，使用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对器件形貌进行表征，观察到深刻蚀的衬底二氧化硅高度约为80 nm.

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