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目前,三氟化氮正被研究作为一种半导体干气体蚀刻剂。这是因为它有很高的蚀刻速率和选择性。由于这种气体刚用于电子工业,故本文将对该化合物的物理和化学性质加以论述,并提供管理NR的资料,以及检漏和清除渗漏物的方法。三氟化氮曾大量成功地被用作化学激光器的氟源。采用NF3而不采用F2，其原因是在常温下NF3比较容易处理。因而，NF3的贮存和处理都不需特别的预防措施，而大量使用氟则需要非常小心。就电子工业来说，NF3是一种新型气体，可利用的数据和处理方面的经验很少，为此，本文现阐述其物理和化学性质，并介绍其处理的方法。