【摘 要】
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本文介绍了一种新型的高效率、低成本的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺不同于传统光刻工艺,它是通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形化.因此,其
【机 构】
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华中科技大学机械科学与工程学院,武汉,430074
【出 处】
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2004年中国机械工程学会学术年会
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本文介绍了一种新型的高效率、低成本的纳米结构制作方法--纳米压印光刻技术.该工艺不同于传统光刻工艺,它是通过阻蚀剂的物理变形而不是改变其化学特性来实现图形化.因此,其分辨率不受光波波长、物镜数值孔径等因素的限制,可突破传统光刻工艺的分辨率极限.此外,该工艺还具有高效率、低成本、大深宽比等优点.本文详细介绍了热压雕版压印工艺及我们研制的设备,并给出了纳米级光栅、微孔阵列、微透镜阵列和微流通道等微器件的压印实验结果.获得的复形精度和质量良好.该工艺为实现低成本、大批量复制纳米结构创造了条件,在半导体集成电路、微光学、生物和化学分析等微纳结构和器件的制作中有着良好的应用前景.
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