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该文首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺，文中对制栅工艺的原理、过程进行了探讨。本制栅工艺适用于制作0.1μm至25μm范围内所选定频率的双频光栅。
双频电子束云纹光栅的制作工艺研究
【摘 要】
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该文首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺，文中对制栅工艺的原理、过程进行了探讨。本制栅工艺适用于制作0.1μm至25μm范围内所选定频率的双频光栅。
【机 构】
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清华大学工程力学系
【出 处】
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第九届全国实验力学学术会议
【发表日期】
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2000年期
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