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在真空镀制光学薄膜过程中，镀膜前基片表面的洁净度对镀制膜层的质量有直接的影响。介绍了基片表面洁净度的评定和检测方法，对光学基片表面污染物的来源、类型及清洗工艺进行了评述。针对实验室的清洗工艺无法满足微小型高性能光学产品的需求问题，通过分析比较，探索出超声波+碱性清洗液清洗、去离子水喷洗和漂洗、氮气干燥洁净的组合，能够成为一种可以满足高性能光学滤光片技术要求的理想工艺。