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１μｍ ＣＭＯＳ电路生产中所用的光刻胶反向腐蚀平坦化工艺
【机 构】
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华晶集团中央研究所
【出 处】
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第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议
【发表日期】
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1995年期
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