真空镀膜工艺参数的测量与控制技术研究

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薄膜技术和薄膜材料是当代真空技术和材料科学最活跃的领域,在新技术革命中扮演着重角色.该论文提出了用石英晶体振荡法测量ITO薄膜厚度和沉积速率的可行性,并采用差频法消除温度引起的石英晶体谐振频率的漂移.完成了检测电路、单片机测量系统和传感器探头的结构设计.该传感器不仅适用于ITO薄膜厚度的测量,而且适用于其它种类薄膜厚度的测量.它具有测量精度高、对真空系统无污染及结构简单等优点.有实用价值.用差频法消除温度引起的频率漂移,目前国内尚无人作此工作.此项研究在提高石英晶体振荡法测量薄膜厚度和沉积速率的性能方面,提出了一条可行之路.在ITO直流磁控溅射镀膜过程中,真空镀膜室各工艺参量的关系十分复杂,实现对其的自动控制,一直是一个难题.该论文在总结专家实际经验的基础上,分析了靶极电压与ITO薄膜厚度和沉积速率的关系,设计了一种神经网络自调整模糊控制器,通过薄膜厚度和沉积速度的测量实现对靶极电压的调节,从而改善薄膜质量.对于控制器的性能,该文作了仿真研究.对于镀膜室各参量的自动控制问题,中国很少有人作专项研究.德国的Laybold公司几乎全面实现了对真空镀膜室各参量的自动控制,其镀膜产品的质量大幅度提高.该课题在镀膜室参量的智能控制方面作出了一点有益的尝试.
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