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本文首先对透明导电薄膜（TCO）的发展进行了总结，讨论了铝搀杂氧化锌薄膜（AZO）的性能优点，之后对AZO薄膜的晶体结构、搀杂、制备方法、用途进行了综合描述，并指出了透明导电薄膜的发展趋势。在此基础上，使用射频磁控溅射的方法在聚酯（PET）胶片表面沉积了AZO薄膜，通过改变沉积压强，射频功率等参数，使薄膜出现了不同的形貌，织构和不同的光学、电学性能，并使用原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、能谱仪（EDS）、分光光度计和方阻测量装置对薄膜的结构和性能进行了测试，得到了以下的结论： 1．Ar压强对薄膜的结构，形貌和光电性能等有重大的影响。当沉积压强从0.2Pa升高到2.0Pa时，得到以下的研究结果：1) 由于碰撞次数的增加，薄膜的厚度减小，沉积速率下降；2) AZO薄膜的颗粒尺寸明显变大，薄膜的表面粗糙度也大大的增加；3) EDS分析表明，薄膜的组成变化比较复杂，Zn／Al的原子比在1.5Pa附近有一个最大值；4) AZO薄膜的方阻迅速增加，电阻率也迅速增大，在0.2Pa下最小电阻率为3×10-4Ωcm；5) 在各个压强下制备AZO薄膜的可见光透过率能达到90％以上，禁带宽度明显减小，蓝移现象很明显。 2．随着射频功率的增加，我们发现：1) 薄膜的厚度和生长速度均迅速上升；2) 薄膜的颗粒尺寸先减小，之后由于衬底温度的交叉影响，又开始增大，但是薄膜的表面粗糙度则呈上升趋势：3) 在125～150W之间，Zn／Al的原子比有一个最小值，这里最接近靶材的成分；4) AZO薄膜的方阻和电阻率都迅速减小；5) 功率对薄膜的透光曲线的形状影响很大，低的功率下制备的薄膜的透光范围更大，禁带宽度也越大。