X射线宽带多层膜的设计方法及制备工艺研究

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【摘要】

：

近年来,随着同步辐射和空间探测技术的发展,迫切需要一种能在X 射线波段提供高入射光能量的光学元件—X 射线宽带多层膜。为了适应X 射线光学的发展趋势,作者系统地开展了X 射线宽带多层膜的研究工作。本文从基于原子散射因子的光学特性出发,讨论了X 射线在理想和非理想界面的反射特性,探讨了宽带多层膜材料W、B4C 的选定方案;为了使宽带多层膜的设计结果更加合理,对多层膜材料的折射率进行了拟合匹配。在确定

【作者】

：

姚志华

【机构】

：

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

【发表日期】

：

2005年12期

【关键词】

：

X 射线宽带多层膜遗传算法磁控溅射

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