氧屏蔽氩微波等离子体炬(OS-ArMPT)激发光源的诊断及其应用研究

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本文进一步研究了氧屏蔽微波等离子体炬的放电特性,考察了低功率下氧屏蔽微波等离子体炬(OS-ArMPT)的一些参数,包括Texc、Trot及ne,主要研究了随氧屏蔽气流量变化时,OS-ArMPT光源上述参数的变化情况;同时考察了各工作参数对它们的影响,发现了一些规律性的现象,并探讨了OS-ArMPT中可能的激发机理。通过易电离元素(EIE)和有机溶剂对元素发射强度的影响和对等离子体参数影响的考察,研究了OS-ArMPT对EIE和有机溶剂的承受能力,并探讨了EIE和有机溶剂对等离子体激发机理的影响,为克服微波等离子体炬原子发射光谱法中基体干扰提供了一定的理论依据。本文还将萃取与回流相结合,建立了一种处理航空润滑油中磨损金属的新方法,这种新的样品处理方法不仅经济、方便快速,更主要的是样品处理实现了办自动化,结合新研制的OS-ArMPT全谱仪,拓展了OS-ArMPT全谱仪的应用领域。
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