纳米压印技术相对于传统的光学光刻具有成本低、效率高、分辨率高、工艺过程简单等优点，并且不会受到光刻曝光波长衍射极限的影响。该技术应用非常广泛，如电子元器件、光学元件等的制作。因此，纳米压印技术已经成为国内外的研究热点之一。本文首先对聚合物的材料特性以及体系结构进行了介绍，分析了聚合物的电光特性。然后介绍了纳米压印技术，提出该技术可用于聚合物光波导的制备，通过对几种主流的纳米压印技术进行详细对比分析，选择了软压印技术作为本文光波导制备的压印方案。接着推导出了平板波导的单模传输条件，使用有效折射率法对矩形波导结构进行了分析。在光波工作波长为1550nm和波导横截面高为1.8μm的条件下，利用有效折射率法求得单模传输条件下矩形光波导的宽为1.6μm。然后使用OptiBPM仿真软件对以上的矩形波导横截面尺寸的不同Y分支角度进行仿真，发现在分支角度为1°时损耗最低。本文也对压印制备光波导的实验方案进行了设计，选择了聚二甲基硅氧烷（PDMS）作为压印模板材料，采用SU-8负性光刻胶制作出了母板图形。对软模板压印过程中的受力形变进行了分析，得到了压印力与压印模板厚度的关系，然后对芯层的图形转移过程也进行了分析，确定了芯层能够进行完全转移图形的涂覆最小厚度。设计好压印实验方案后，我们对压印过程进行了实验研究，经过多次的实验分析并对实验参数进行了优化，最终成功压印获得光波导结构图形，验证了纳米压印用于制作聚合物光波导的可行性。本文还对M-Z聚合物电光调制器进行了制备研究，制备过程中对电晕极化后芯层材料的电光系数进行了测试，然后通过分析得到了电晕极化的优化参数。