【摘 要】
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真空紫外波段的应用在表面物理研究、宇宙物理、生命科学、半导体光刻技术等方面有着极为重要的作用。真空紫外反射薄膜作为重要光学器件组成部分，应用十分广泛。 本文分析
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真空紫外波段的应用在表面物理研究、宇宙物理、生命科学、半导体光刻技术等方面有着极为重要的作用。真空紫外反射薄膜作为重要光学器件组成部分，应用十分广泛。 本文分析了表面粗糙度对薄膜反射率的影响，使用原子力显微镜(AFM)测得了薄膜表面图像，并利用分形法对该图像进行了计算，给出了新的薄膜表面粗糙度的评价依据；根据菲涅尔公式建立单层金属膜反射率的计算模型，计算了最佳反射率设计值；利用离子束溅射沉积法制备了一批金反射膜样片，深入研究了真空紫外波段金属反射膜的反射特性，分析镀膜工艺中基片材料、薄膜厚度、清洗工艺等各环节对最终反射率的影响。进过分析发现，薄膜厚度对反射率有至关重要的作用，同时使用石英基片并使用辅助离子源、离子清洗可以不同程度的提高薄膜反射率。
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