非平衡磁控溅射(UBMS)是上世纪90年代，由国外的学者提出。在制备大面积均匀薄膜上非平衡磁控溅射有一定的优势，它具有较大的离子密度，对基片表面产生较强的离子轰击作用，并使得薄膜产生更致密、更强结合力、更均匀的膜层，同时大大降低了镀膜质量对温度的依赖性。非平衡磁控溅射中由于励磁电流的影响使得溅射速率与粒子浓度较高，靶材表面的电子和离子的能量达到80eV左右，从工业生产的要求来看非平衡磁控溅射比传统的平衡磁控溅射更具有优势。 本论文结合科研项目对非平衡磁控溅射中的磁场分布进行了研究。详细介绍了非平衡磁控溅射与磁场数值模拟分析计算的国内外发展现状。利用有限元法建立了UBMS型镀膜机内部磁场分布的数学模型，借助于ANSYS分析软件对非平衡磁控溅射镀膜机内部磁场分布进行了数值计算，求解出真空室内各点的磁场强度与磁感应强度值。结合不同条件下所镀制的薄膜在性能上的各种变化，重点分析了磁场分布对薄膜性能的影响，从而达到通过控制磁场分布以提高薄膜性能的目的。