镁合金由于良好的物理和机械性能受到了人们的广泛关注,在汽车、3C数码产品和航空航天领域得到了应用。但是由于镁及其合金化学性质较活泼,耐腐蚀性能较差限制了它的广泛使用。目前主要从镁合金表面改性出发应用各种表面涂层处理技术来提高其耐腐蚀性能。微弧氧化工艺属于原位生长陶瓷膜的方法,与基底结合较好,但由于工艺条件的限制使制备的微弧氧化膜层具有微米级的缺陷限制了其对镁合金的保护。铈基防腐涂层由于能够能够提供良好的物理阻隔效应近年成为了各国学者研究和开发的课题。但是有关磁控溅射CeO₂提高镁合金的耐腐蚀性的相关研究较少。本文利用微弧氧化-磁控溅射复合技术在AZ31B镁合金表面制备CeO₂/MAO复合涂层。实验研究了微弧氧化过程中占空比、氧化时间、频率、电流密度等电参数对陶瓷膜表面形貌和电化学性能的影响。并对磁控溅射功率和溅射时间对复合膜性能进行了研究。试验表明,当微弧氧化占空比为40%、氧化时间20min、频率为1000Hz、电流密度为0.2A/cm²时MAO涂层耐腐蚀性能最优。MAO陶瓷层主要由MgO和Mg₂SiO₄组成,截面形貌显示涂层主要由内部致密层和外部疏松层组成,经过336h盐雾试验样品表面发生的点蚀面积相对较少。在微弧氧化最优工艺的基础上使用磁控溅射技术进一步制备了CeO₂/MAO复合涂层。磁控溅射镀CeO₂后复合膜表面孔洞的尺寸和数量都减少,CeO₂对MAO镁合金实现了连续均匀地覆盖,弥补了微弧氧化工艺的不足。实验中最优溅射功率90W,溅射时间6h时复合膜具有最低的腐蚀电流密度2.27×10^-9A/cm²和电荷转移电阻8.1×10⁷Ω·cm²,经过336h盐雾试验表面只发生了少量点蚀。