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作为材料电磁加工的重要分支,强磁场材料科学近年来引起了人们的广泛关注,尤其是对强磁场下材料的凝固过程的研究以及强磁场下取向性材料的制备等。强磁场热处理,作为一种新型的热处理方法,主要是在材料的固态相变过程中,利用不同的组成相或溶质元素之间磁性能的差异,进而改变材料的热处理过程及效果。本论文在Mg-Gd-Y-Zn-Zr合金的热处理过程中引入了强磁场,以Mg-9Gd-3Y-0.6Zn-0.5Zr(wt.%)、 Mg-8Gd-5Y-2Zn-0.5Zr (wt.%)合金为研究对象,在场强为10T的强磁场下进行热处理,并将其组织与普通热处理后的合金组织进行对比,研究强磁场热处理对合金显微组织以及晶粒取向的影响。结果表明：(1)强磁场热处理使得Mg-Gd-Y-Zn-Zr合金组织中α-Mg基体晶粒产生了择优取向,但对组织中长周期堆垛有序结构(LPSO)相的取向性影响并不明显。由于合金在热处理过程中晶界迁移率较高,而外加强磁场后产生了磁致晶界迁移驱动力,使得α-Mg基体晶粒的c轴会以垂直与磁场的方向排列。(2)强磁场热处理促进了Mg-Gd-Y-Zn-Zr合金组织中长周期堆垛有序结构(LPSO)相的形成。在强磁场热处理过程中,由于晶界上与晶粒内部溶质元素含量的差异而产生的磁化能,为溶质元素由晶界向晶内的扩散提供了动力,从而促进了LPSO相的形成,并促进了其由晶界向晶内的生长。镁基储氢薄膜材料以其密度小、比表面积大、储氢量高的优点倍受人们的关注,利用强磁场控制薄膜产生某一特定方向的织构,会对薄膜的性能产生较大的影响。本论文的第二部分主要通过磁控溅射法研究制备了Mg-Ti薄膜,为下一步Mg-Ti薄膜强磁场下热处理研究做了准备工作。通过对薄膜组织的研究发现：(1) MgxTi1-x薄膜的成分主要与Mg、Ti靶的溅射功率有关,当两靶的溅射功率比值为7：11时,Mgx、Ti1-x薄膜的成分可控制为Mg80Ti20。而且磁控溅射制备的Mg80Ti20薄膜表面稀松多孔,这种形貌有利于提高薄膜的储氢性能。(2)溅射功率比(7：11)一定时,溅射气压会显著影响Mg80Ti20/Mg多层膜的分层效果。当溅射气压为0.3Pa时,薄膜的分层较清晰。