微流控芯片制作的研究及软件模拟

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采用硅的各向同性湿法腐蚀的方法制作微流体阳模,比采用光刻胶制作阳模成本更低,而且在软光刻的过程中阳模不易被破坏。同时相对于各向异性的腐蚀方法来说,速度更快,对图形的变形也较少。本文将对硅的各向同性腐蚀的特性进行研究,并介绍采用这种腐蚀方法制作微流体阳模的具体实验过程。软光刻技术是现在微流体制作方面最常用的技术之一。本文对软光刻技术的应用和发展进行了深入分析。在实验过程中,对单层软光刻技术和多层软光刻具体的工艺进行了研究,为进一步的实验奠定基础。同时还对双层微流阀的特性进行了测试。微流体液体波导是微流中层流现象的一种应用,它将是在微流传感和探测等领域非常有前景的微流体光学器件。在课题研究过程中,我们采用有限元分析软件模拟微流通道中的层流现象,并分析在层流过程中外界驱动压强和溶液浓度的变化和层流波导中折射率的变化的关系。
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